中芯国际11台光刻机到手,依然救不了华为?工信部指出了关键!

2021-05-11 04:00:02 大卫聊科技

就在前不久,中芯国际向ASML采购的11台光刻机终于交付了,虽然是DUV光刻机,但是由于这11台DUV光刻机并不牵涉到任何美G技术,因此很多人都认为华为有救了。但是真的如此简单就可以打破华为的僵局吗?答案是否定的。光刻机依然救不了华为!为何这么说呢?

其实早前工信部就已经指出了关键,工信部认为,要解决中国芯片难题第一件事情就是要推动CAD以及EDA等工业设计软件的发展。显然,工业设计软件的重要性远高于光刻机,这也是华为现在所面临的最大难题,这也是解决华为困境的核心所在,只有光刻机也根本无法解决华为的问题。

上海微电子已经成功研制出了28nm光刻机,虽然距离世界顶尖水平还有一些差距,可是从大方向来讲,对于光刻机的制造原理基本上已经有所了解和掌握。那么为何还是无法救华为于危难之中呢?

问题的关键就在于软件方面。

芯片制造并不仅仅只有制造这一个步骤,它分为了3个环节,设计、制造和封装,缺一不可,只要有一个环节没有自己的技术,就会被人“卡脖子”。在制造方面,我国的光刻机技术已经有所成就,芯片封装技术也是世界领先的,芯片设计也已经突破了3nm工艺水平,那么问题来了,这就是最大的漏洞所在,我们并没有自己的芯片设计软件!

华为确实在芯片设计方面是领先的,甚至已经设计出3nm工艺的芯片。然而这些成果都是基于美国EDA设计软件才会产生的,这就是相当致命的。虽然华为目前在芯片设计方面并没有受到限制,但是主动权依然在美G方面,一旦工业设计软件被禁用,华为在芯片方面将会彻底失去优势。

不管国内的工程师的芯片设计能力有多么强,可是没有设计软件的使用,一切都是空谈。芯片制造的核心关键其实还是EDA设计软件,但是很可惜的是,我国在工业设计软件领域,几乎是空白的状态。

所以对目前的华为来讲,光刻机其实并不是最重要的,就算拥有了光刻机,也依然无法缓解华为的困境,而华为现在最迫切的目标就是要自研芯片设计软件,这样才可以真正的独立。任正非此前也已经表达了态度——向上捅破天、向下扎到根。

不管是光刻机的研发还是工业设计软件的研发,都需要很长的周期,耗费大量的研发资金,但是芯片独立之路本来就不好走。没有自己的芯片设计软件,一切都只能是空谈,没有任何意义。这是艰难的一步,也是第一步。如今国家也已经重视到了这一点,大力扶持芯片设计软件的研发,国内企业也应该积极响应。

虽然我国在芯片设计软件领域依然是一片空白,但是就是因为这些“0”的存在,我们才更要突破,“0”只会成为我们的软肋和短板,避免不了被人“卡脖子”的困境,只有突破了“0”的存在,我们才可以实现真正的自由!对此,你怎么看呢?欢迎评论留言!

特别声明:以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布,本平台仅提供信息存储服务。

Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.

相关推荐

热门新闻