任正非在说到大学生的责任和担当的时候说到，大学生应该将目光聚焦到二三十年以后的先进科学上，而不是我们当下两三年遇到的问题。
光刻机不是问题，也用不到大学生操心，任正非这样告诉C9高校联盟，确实不用大学生担心，就像任正非说的一样，我们的光刻机行业也到了逐步发芽成长的阶段。
前道涂胶显影机：芯源微集团与众多光刻机企业实现联机
消息显示，芯源微的前道涂胶显影机已经在技术问题上有了极大的突破，正在与ASML、佳能、尼康等国外光刻机企业以及国内的上海微电子进行联机测试，如果联机成功，意味着芯源微正在逐步与世界接轨。
芯源微的前道涂胶显影机也会随着这一次的联机成功，被划分到先进的半导体生产设备一类，专门与ASML等从事光刻机生产多年的世界顶级企业合作，对于我国的半导体生产设备来说，这是一件值得庆贺的事情。
前道涂胶显影机很多读者不了解这一设备的作用，这里就给大家做一个简单的科普，首先解释一下显影机的作用，显影机可以直接理解字面意思，将影子显现出来的机器，要有影子就得有光，所以前道涂胶显影机是在曝光下进行工作的。
中间两个字涂胶是指涂抹光刻机，前道大家可以理解成整个芯片加工的过程，前道涂胶显影机的意思就是：在整个芯片加工过程中，给光刻机涂抹光刻胶对其曝光影子显现出来的机器。
前道涂胶显影机的作用：检测光刻胶涂抹是否均匀恰当
为什么要将影子显示出来，这一点可以参考打印机，他们内部就有显影机的存在，打印出来的内容其实就是影子展现出来的内容，不过前道涂胶显影机还有一个作用就是检测光刻胶涂抹是否均匀。
光刻胶的涂抹是否均匀恰当关系到芯片的良品率的问题，因为光刻胶其实就是利用光化学反应的原理将光刻系统中经过衍射、滤波后的光信息转化为化学能量，进而完成掩模图形的复制，光刻胶的这些东西都要在显影机中实现。
这里说到前道也多普及一点东西，完整的芯片测验过程包括三个过程第一个是设计验证与芯片设计关系，最后一个是最后测试，与封装检测有关，中间的所有过程的检测都称作前道量检测。
这一检测程序覆盖了晶圆加工厂的上千道工序，并且每一道程序都不容有失，5nm芯片集体翻车，除了本身技术不够成熟外，其实前道量检测没有做好也是一个巨大的问题，不过幸好ASML已经对自己的前道量检测设备进行了升级。
大族激光也在生产光刻机：还很薄弱，还有很长的路要走
大族激光是我国所有的激光企业中，产品种类、工业程序最为完善的一家企业，背靠中科院，面向星辰大海，大族激光的市场除了国内以外，最主要的方向还是国外，能在激光领域走出去的中国企业不多，他是第一个。
大族激光也在研发自己的光刻机，不过还有很长一段路要走，虽然研发出了成品，但是工艺制程还停留在微米级别，这一光刻机并不是为顶级的集成电路生产的，甚至市面上要找到以微米为单位的芯片，主流产品还不好找。
不过万事开头难，至少让我们知道，这么多企业当中，除了上海微电子以外，其实大族激光也能造得出光刻机出来，这对我们来说，同样也是一件好消息，看来大学生，还是多多研究更先进的学问吧。
看到这些企业接二连三地在光刻机产业上取得重大突破，总觉得有一种野火烧不尽，春风吹又生的感觉，这一次不仅国家做得很好，连我们的企业也是在全力以赴。
芯源微与大族激光的突破对我们来说是双喜临门，以后还有更多的惊喜等着我们。
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