如果我们中国真的造出了7纳米级别的光刻机,那将是“惊天地泣鬼神”的事情,这一点都不夸张。一直以来,西方国家,尤其美国,姿态非常高,骨子里就瞧不起咱中国人,总是认为,没有他们,我们中国就做不出高科技产品。尤其是制造芯片的光刻机,为了不让我们中国能自己制造芯片,美国居然不让世界顶级光刻机制造商ASML卖给我们光刻机,出价再高,就是不卖给我们。

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如果此时,我们真的造出了7纳米光刻机,就等于向全世界宣布——欧美国家对我们的技术封锁全面破产,他们不仅没有妨碍我们的芯片制造,还加速了我们高端光刻机的研发进度,这样会极大地打击他们高傲的自尊心,从此再也不敢小瞧咱中国。

想法是美好的,我也希望我们国家的光刻机技术能够达到7纳米级别。但是,我们要清楚地认清事实,光刻机是这个世界上最难攻破的一门高科技,比制造核弹还要复杂,在短时间内,我们是很难有大的突破。我们可以想一想,7纳米是个什么概念,1 毫米=1000000 纳米,也就是说,7纳米=0.000007毫米,我们人类肉眼根本识别不出来,而是需要非常高端的精密仪器才能做到,可以想象得到,制造出一台7纳米光刻机有多难。

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而且,制造光刻机所需要的核心配件,都被欧美所垄断,并且对我国实行技术封锁,不仅不卖光刻机给我们,连这些核心部件也不卖给我们。据ASML公司公布的数据,一台ASML高端极紫光刻机是由10万多个零部件组装而成,而这10万多个零部件是由全球成百上千家的企业供应。而主要的核心部件都是由欧美发达国家提供。在ASML核心部件前17大供应商中,美国占了9家,台湾占了4家,日本占了3家,德国占了一家。如果美国说不,ASML同样也造不出光刻机。

也就是说,我们中国要想造出7纳米的光刻机,必须完全靠我们自己:不仅光刻机工艺的研发技术靠我们自己,就连一些可以花钱就能买到的核心配件,我们也得靠我们自己国内的相关企业来生产。目前,中国国产光刻机制造企业——上海微电子已经可以量产96纳米光刻机,并且成功研发出28纳米的光刻机技术,但是,从研发成功到生产制造出来,还是需要一些时间的,最快也要到2021年才能生产出来。

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虽然制造光刻机非常难,但是,对于我们中国的科学工作者来说,没有什么是不可能的,他们已经创造了一个又一个的奇迹:从原子弹到卫星,从神舟飞船到玉兔奔月,从中国空间站到深海蛟龙,从北斗导航到5G全球领先……过去的实践证明,欧美越封锁的,我们发展得就会越好。相信光刻机也是一样的,我们的高端光刻机也正在向我们徐徐走来。

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