小小的芯片，重要性越来越大，几乎电子产品都离不开它。芯片虽小，但生产过程却不简单，一般都要经历设计、制造、封测三个环节，其中最重要的就是制造环节。
制造环节也是投资最大的重资产行业，不仅技术水平要求较高，还需要购买大量的制造设备，尤其光刻机更是重中之重。不过，光刻机出货却不断有限制的规则出现。
关于芯片，我们的差距还不小，目前主要依赖进口，芯片在进口商品中超过石油位居第一。主要原因除了之前“造不如买”的思潮影响外，就是西方对技术等的限制。
尤其是半导体方面，西方为持续攫取高额利润，一直限制相关技术、设备等的出口，他们的目标就是想我们半导体整体水平落后两代，因此光刻机就成了限制的重点。
在全球光刻机领域，目前最厉害的就是荷兰ASML，独家生产最先进的EUV光刻机。
EUV光刻机是生产7nm以下高端制程芯片的必要设备，光刻机出货限制首先针对的就是EUV。因此，就有了光刻机出货限制的规则之一：EUV光刻机限制出口给中企。
中芯国际2018年时就向ASML订购了一台EUV，正是因为这个规则至今未能到货。
这还不算完，去年光刻机出货限制规则又增加了，或称之为规则之一：在大陆设厂的外企晶圆厂也不能获得EUV。因此，韩企SK海力士无锡工厂引进EUV就受阻了。
近日，又有消息传来，目标不再仅限于EUV，又想要限制DUV光刻机的出货。据知情人爆料，美代表正在施压荷兰，要求ASML限制DUV出货，但目前还没做出决定。
据说，美官员也试图向日本施压，要求日企供应商也停止出售，尼康表示还没消息。
从以上消息来看，这貌似又在继续推进光刻机新规。这或许是看到我们在芯片方面的进步非常快，且第一季度还成了ASML第一大出货地。那这个新规能够达成吗？
首先，大陆有全球最大市场
我们大陆不仅是全球最大的半导体消费市场，如今还成了全球最大的半导体设备市场，基本上所有芯片制造商都在这里开拓市场，谁也不想错过大陆这里发展的巨大机会。
更为关键的是，如今我们已经觉醒，开始致力于加速芯片行业发展，芯片的全产业链的各个环节都开始前进，如果他们不抓住现在的发展机会，恐怕以后也就没机会了。
尤其是光刻机，这次想要针对的ArFi沉浸式光刻机，我们如今也正在积极的攻坚中。
其次，ASML肯定不想实施
对于光刻机的限制出货，ASML本身就不情愿，尤其是EUV光刻机的限制，要不然当初也不会接受中芯国际的订单，但后来在美方的多次阻挠下，终究还是不能出货。
为此，ASML总裁甚至发出警告，限制只能促进大陆技术进步，不出15年大陆将突破所有，到时只能失去市场，还特别指出限制EUV是《瓦森纳协议》成员国的决定。
为此，ASML才加大了DUV光刻机的出货力度，今年一季度大陆才成为第一出货地。
第三，美企设备商也不愿意
不仅如此，ASML还大力推进下一代High NA EUV光刻机，目的就是推进原来EUV的出货。如今想要它限制DUV，当然更不愿意了。不只ASML，相关美企也不愿意。
除了光刻机，其他的设备供应商主要还有美企应用材料、泛林集团等，他们都跟中芯国际、华虹半导体等有合作，目前他们已被禁止了一些先进设备等出货给中企。
如果再限制DUV，那么其他设备也就不需要了，这些美企损失更大，当然不愿意。
不过，也不是完全不可能，因为“自损八百”的事他们之前也干过，为了阻挠我们的进步，他们说不定还真做得出来。不过，我们也不必担心，不让用正好不用它了。
因为我们的光刻机快要突破了，这还正好促进我们的推广应用，说不定还是好事！
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