>提到EUV 光刻 技术,相信大家都会在第一时间联想到一家荷兰公司,那就是ASML。作为全球唯一一家EUV光刻设备的供应商,ASML所生产EUV光刻机的售价高达上亿欧元,也是晶圆代工企业生产7nm以下制程芯片必须采购的设备。

但是,由于《瓦森纳协定》以及一些客观因素带来的影响,中企中芯国际向ASML订购的EUV光刻机,迟迟无法完成最终环节的发货。

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在老美修改相关规则之后,台积电、三星等芯片公司无法实现自由出货,国内芯片设计公司对于高端芯片产品的代工需求,也开始大幅度增加。在这样的局面之下,高端EUV光刻技术的国产化,就成为了缓解芯片产业被“卡脖子”的首要目标。

前不久, 中科院 旗下的物理研究所,公布了有关EUV光刻技术的研发进度。同时,对外界公开招聘EUV光刻领域的技术人才,筹备国产EUV光刻技术的研发、设计。

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在这样的局面之下,越来越多的中企也开始自发的加入进来。

据悉,想要实现EUV光刻产品的国产化,不仅仅要解决EUV光刻机等设备的供应问题。在光刻胶、硅晶锭等原材料的技术上,也需要实现国产化的技术突破。

而在光刻胶领域,我国国产光刻胶产品已经能够做到支持7纳米的工艺,但是,在高端的EUV光刻胶领域中,仍需要向以日本为首的东京应化、住友化学等进行进口。

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为了改变这一局面,上海新阳开始就高端光刻胶技术展开研发。先后在KRF、ARF和ARFi光刻胶领域取得技术突破。

近日,上海新阳对外界公开表态,已经开始就EUV光刻胶技术展开研发,同时,ARF和ARFi光刻胶产品已经进入到客户验证阶段,工厂预计今年建设完工,明年就会批量供应给国内外的芯片生产企业。

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这也就意味着,国产光刻胶技术已经实现了从无到有的重要突破,并且,在高端的EUV光刻胶领域,我国企业已经开始进行研发设计。

那么,EUV光刻胶的国产化意味着什么?又会对国内的芯片制造产业,带来什么样的影响?

首先,光刻胶是半导体领域的高端应用材料,此前,高端的光刻胶供应链,一直被日本企业掌握在自己手中。在外界规则发生变动之后,日本光刻胶等原材料的供应价格也开始出现上涨。

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国产高端光刻胶的问世,不仅能够打破外企的肆意加价,还能够完善国内的芯片产业链,将国产光刻胶销售到海外市场,为之后的芯片技术研发,提供更多的资金支持。

其次,正如我过倪光南院士所说,“核心技术是买不来、求不来、换不来的”如今,我们不对EUV光刻胶提前进行布局,未来,国产高端芯片就有可能被“卡脖子”。

所以,有关EUV光刻胶技术的研发,也一定要摆在前面,以备不时之需。

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最后,中科院等重点院校,已经开始就EUV光刻技术展开科研攻关。因此,在国内企业开始布局国产EUV光刻胶的研发设计时,国内在EUV光刻技术上就逐渐形成了一条闭环体系。在这样的局面之下,外企即便中断掉其中一个环节,也无法对国内芯片产业链继续带来根本影响。

正所谓,“手里有粮,心里不慌”,国产EUV光刻技术没必要做到完全取代外企,但是,在关键时刻,绝对能够肩负起产业国产化替代的重任,让外企不敢再轻易进行“断供”。

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总结

随着国内相关产业链的逐步完善,EUV光刻技术的国产化想必已经不远了。有相关学者指出,若外界迟迟无法供应EUV光刻设备,国产EUV光刻机(或取代EUV光刻技术的产品)最快会在2030年问世。

届时,无论是ASML还是美芯片设备供应商,都将彻底损失掉国内芯片代工领域的市场。对此,你又是怎么看的呢?欢迎大家留言讨论!