新光刻机刚突破,日本光刻胶就断供,韩企亲自示范如何打破壁垒

2021-06-16 01:26:18 晓燕育儿记

在任何行业,技术一直都是其持续发展的有力保障,“华为事件”更是让我们清楚地认识到突破国外的技术壁垒,实现自主发展对于公司,对于国家而言都是至关重要的。

上海微电子公布新一代光刻机有新突破

制造芯片地热潮在我国一直没有断过,作为芯片制造中的基础—光刻机,我国在此行业中近期又有了新的发展。

上海微电子在近期对外宣布,极紫外线光刻机研发成功,其最大精密度达到28nm,这样的一个消息必然在全世界范围内引起了热议。

因为它不仅代表着我国在光刻机行业地突破,更预示着我国在半导体行业地发展迈出了重要的一大步。

但该消息的传出还没有让我们开心多久,随之而来的就是坏消息—越信化学决定断供光刻胶,其理由更是让人难以接受。

众所周知在光刻的过程中一定会用到一种材料就是光刻胶,它的质量将会直接影响到芯片地性能、稳定和良品率,甚至有着“半导体材料皇冠上地明珠”称号

目前全世界光刻胶销售中日本就占到了90%的高比例,在光刻胶技术方面立起了高高的墙壁。

近日越信化学公司对外宣称不打算再向我国卖出KrF光刻胶,其断供理由主要是因为受到疫情和国内地震的影响,其光刻胶地制造能力有限,无法向全世界所有的半导体公司提供光刻胶。

日本公司对于我国光刻胶材料的断供,无疑对我国半导体事业的发展造成巨大冲击,但正所谓是当外在压力在逐渐增加时,内在动力也会随之增强。

韩国公司在突破日本光刻胶壁垒这一方面就做了很好的示范,在2019年7月1号,由于两国之间的一些利益矛盾冲突,日本公司的一些半导体原料限制向韩国出售

其中的材料有光刻胶和高纯度氟化氢,这些材料都是芯片行业中所需的重要材料,为了能够谋求新的发展出路,韩国从两方面着手处理。

首先是韩国大力支持本国公司行业地发展,努力实现自我供给,其次是从其他国家积极寻找可替代的供应商,实现多元化提供

我国在氟化氢材料上是可以为韩国提供的,只是其纯度没有日本公司制造的高,但最终在韩国和我国公司共同技术努力下,还是实现了技术突破,完成供给。

至此韩国的经济发展开始出现转机,我国在韩国此次事件中也借鉴了许多经验,许多公司都在加大研发光刻胶的步伐。

从韩国处购买了可再次利用的阿斯麦光刻机,用来研发光刻胶技术,不同的公司主攻不同方向,实现多方突破,其中最值得一提的就是南大光电。

南大光电在日本压力之下,积极探究光刻胶技术,其制造出来的ArF光刻胶产品,是目前国内第一只通过产品验证的ArF光刻胶。

虽然日本对我国光刻胶采用了终止供应的政策,但是这并不能阻断我国在半导体行业中的发展进度,反而使我国在此领域中实现突破式成长。

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